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• SU8 光刻膠使用方法及注意事項使用方法基底準備在使用SU-8光刻膠之前，基板應保持清潔和干燥.清潔基板的方法包括使用硫酸和過氧化氫的混合液（piranha etch）進行濕法清洗，...2024-09-27 09:37:13
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• 純硅模具純硅模具介紹在微流控芯片的加工過程中，除了使用SU8實惠的模具，還需要高精度的純硅模具。一般在以下情況我們會選擇加工純硅模具：1、需要比SU-8模具更高的深寬比；2、模具的加工精度誤差在1μm以內...2025-12-07 17:01:33
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• 用于絲狀真菌抗真菌分析的液滴微流控平臺（下）8軟件下設計（圖5a），并由CAD/Art打印在光掩模上。在硅晶圓上制備SU8-2050負性光刻膠模具，通過紫外線照射和隨后的顯影（SU-8顯影液）。...2024-05-16 11:26:02
• AZ 5214E 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。AZ光刻膠特點：適用于高分辨率工藝（lift-off工藝）適用于正/負圖形很寬的膜厚范圍AZ光刻膠工藝...2024-03-28 10:29:49
• 光刻膠8?膠正被逐漸應用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。在微...2024-03-28 10:18:53
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