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首頁 > 站內搜索 > 全站搜索  '關鍵字: 紫外曝光'
  • 如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率,光掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。首先,光掩模和晶圓之間的灰塵...2024-08-23 08:57:36
  • 微流控SU-8光刻膠的紫外曝光可使SU-8光刻膠可溶于或不溶于溶劑。良好SU-8 UV曝光的相關參數紫外曝光過程中光掩模和SU-8之間的接觸為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率...2017-12-21 08:58:06
  • 環境保護與加工系統光刻與鍵合設備:制備PDMS或玻璃材質的微米級流道芯片,支持紫外曝光與熱鍵合工藝,精度達±1μm,適用于重金屬、農藥殘留等檢測流道設計。3...2025-07-05 00:17:44
  • 食品安全工系統光刻與鍵合設備:用于制備PDMS或玻璃材質的微米級流道芯片,支持紫外曝光與熱鍵合工藝,精度達±1μm。3D打印設備:快速成型復雜結構芯片(如螺...2025-07-05 00:17:44
  • 醫療診斷與加工設備光刻機:用于制備微米級流道結構,如SUSS MA6光刻機支持紫外曝光與掩膜對準,精度達±1μm。軟注塑機:批量復制PDMS芯片,兼容復雜三...2025-07-05 00:17:44
  • SU-8光刻膠模具軟烤(光刻膠的第一次烘烤) ;4、 邊緣光刻膠的去除(可選) ;5、 紫外曝光 ;6、 曝光后烘烤(光刻膠的第二次烘烤);7、 顯影 ;8、 硬烘烤...2025-07-05 00:17:44
  • 高深寬比光敏玻璃生產,具有先進的光敏性、均質性。該玻璃一款技術光敏玻璃。該光敏玻璃經過紫外曝光以及熱處理后會析出晶體,這些析晶區域在酸腐蝕之后可以形成高深寬比的細小...2020-08-21 09:54:51
  • ?凝膠澆筑微流控芯片的介紹模板:用光刻法制作微流控芯片結構圖案硅片模板,包括旋涂光刻膠、軟烘焙、紫外曝光、后烘、顯影、堅膜、硅烷化處理步驟。混合PDMS預聚物與聚合劑:將聚二...2025-03-27 10:36:12
  • 基于玻璃基底的細胞培養芯片研究(上)0min此時光刻膠厚度為6~7μm。軟烘結束,利用光刻機對玻璃基底進行紫外曝光。曝光后的ITO玻璃用顯影液AZ400K顯影,顯影過程中不斷晃動ITO...2024-12-05 10:22:20
  • 低成本微流控芯片的加工與鍵合方法(下)的粘性材料通常是具有紫外固化性質的材料(如SU—8、干膜等),需要經過紫外曝光實現基底和蓋片材料的鍵合。此外,非紫外固化材料如蠟也可以用來進行簡易的...2024-07-23 09:39:21
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