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• su8 光刻膠使用方法及注意事項度建議比設備最大運行溫度高10°C，通常在150°C到250°C之間.注意事項溫度控制確保光刻膠的涂布溫度與室溫相同，通常為23°C.濕度控制控制涂...2024-09-27 09:37:13
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• 多通道恒壓泵的操作注意事項?多通道恒壓泵的操作涉及多個步驟和參數設置，以確保實驗的準確性和安全性。?首先，多通道恒壓泵具有多個正壓通道和相應的控制點，允許用戶單獨控制每個通道的...2024-09-12 09:10:15
• 微流控芯片中玻璃和PDMS進行等離子鍵合需要留意的注意事項的耐壓值。本文將簡要介紹PDMS-玻璃等離子體鍵合工藝過程中需要留意的注意事項。玻璃/PDMS的等離子鍵合等離子鍵合步驟允許您完成微流控芯片的加工過...2024-08-22 10:43:15
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• 掩膜版清洗方法和注意事項光刻掩模版通常被連續用作幾乎每個光刻工藝步驟中。在處理晶圓/樣品時，掩膜版通常會變臟。由于光刻過程中我們常用的接觸是光刻機需要掩膜版與光刻膠上表面緊密...2024-02-28 09:39:58
• 光刻膠旋涂涂布使用及注意事項光刻膠主要通過旋涂的方式進行涂布的（又稱為“甩膠”），對于薄膠，最佳的旋涂轉速為2000~4000rpm，對于相對膠厚的膠，最佳旋涂轉速為250~20...2024-02-21 09:31:38