• SU-8光刻膠模具SU-8模具加工常用設備/耗材：等離子體處理機、勻膠機（旋涂機）、紫外線曝光機、熱板、SU-8顯影液等。SU-8光刻膠模具案例????????...2026-03-01 22:47:00
• 光刻掩膜版制作流程，從而形成所需的圖案。4. 曝光將掩模圖案數據文件導入曝光設備，如電子束曝光機。在曝光過程中，光刻膠中的光敏分子會因為光或電子束的照射而發生變化。5....2024-09-14 08:44:25
• 基于微流控技術實現嚴格厭氧條件下的細菌單細胞培養與實時觀測（上）序。?e. 將硅片置于平整的熱板上 95 ℃ 烘 2 min。?f. 在曝光機的吸盤周圍套入橡膠圈，將第一層鉻板掩膜清潔干凈后放在臺架上(鍍鉻面向下)...2024-04-22 10:01:06
• AZ 5214E 光刻膠圍AZ光刻膠工藝條件：前烘：100℃ 60秒?(DHP)曝光：1線步進式曝光機/接觸式曝光機反轉烘烤：110~125℃ 90秒（DHP）：去離子水30...2024-03-28 10:29:49
• AZ P4620 光刻膠擇AZ光刻膠工藝條件：前烘：100℃ 90秒?(DHP)曝光：G線步進式曝光機/接觸式曝光機顯影：AZ300MIF顯影液 (2.38%)?23℃?60...2024-03-28 10:29:14
• 光刻工藝介紹在可接受范圍內是可以接受的。光刻過程基本可以分為兩個階段。第一階段為通過曝光機將所需圖形轉移到硅片或者掩模版的表層光刻膠上；第二階段為顯影階段，通過顯...2023-12-21 10:56:32
• 光刻機是光刻工藝的核心設備? ? ? ??光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。?　　光刻機一般根據操作...2022-11-22 08:50:23
• 微流控芯片模板是如何加工的束后，電熱板調至 65 ℃備用。 （9）硅片曝光：將冷卻后的芯片置于紫外曝光機的吸盤上，組裝固定。紫外曝光的具體時間要依據芯片的具體要求進行調整，該實...2022-07-22 14:28:36
• PDMS-玻璃鍵合芯片完整工藝 2 所示。本文的陽膜是在超凈間內制作完成，其中所用的主要設備是勻膠機，曝光機 ，以及可編程熱板 PHP-8 等，設備如圖 3 所示。（1）預處理：首...2022-03-31 14:37:35
• 基于時間分辨免疫分析的冰毒檢測微流控芯片試劑G3P-8旋轉涂覆機；KW-4AH烤膠機；SERIES-60平行紫外曝光機；ARV-310液體混合真空攪拌機；FG-5001空氣等離子體處理機；打...2018-11-07 09:49:11