• SU-8光刻膠模具會用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術來制作。為了執行PDMS軟光刻技術的加工過程，通常需要用到模板，最常...2025-07-03 11:00:30
• 光刻加工光刻技術圖形轉移工藝光刻工藝（Photoetching or Lithography）是一種圖像復印技術，利用光刻膠感光后特性發生改變的原理，將光刻掩...2025-07-03 11:00:30
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產品簡介新型的化學增幅型負像 SU- 8?膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，...2024-03-28 10:07:48
• 為什么微流控光刻工藝要用黃光?光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復制流體圖案的過程。基板將涂覆硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠在被紫...2025-06-16 09:43:59
• 光刻工藝中的顯影技術一、光刻工藝概述光刻工藝是半導體制造的核心技術，通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發生化學變化，再經過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，將設計在掩膜上的圖形...2025-06-09 09:41:00
• 光刻膠產業國內發展現狀如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關鍵輔料。光刻膠（photoresist），在業內又被稱為光阻或光...2025-06-04 09:07:49
• 光刻掩膜版的儲存條件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工藝中至關重要的工具，它直接影響到最終圖形的精確度和質量。雖然直接關于光刻掩膜版的儲存條件的信息較少，但我們可以...2025-04-28 10:01:32
• 鉻板掩膜和光刻掩膜的區別掩膜版作為微納加工技術中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統等領域具有廣泛的應用。隨著信息技術和智能制造的快速發展，特別是智能手機、平板電腦...2025-02-19 09:29:54
• 正性光刻對掩膜版有哪些要求正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因為它具有較低的...2025-02-17 09:46:14
• 晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究隨著半導體器件的應用范圍越來越廣，晶圓制造技術也得到了快速發展。其中，光刻技術在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質量直接影響到晶圓生產的效率和質量。本文將圍繞著晶圓表面光刻膠的涂覆與刮...2025-01-03 09:43:30