1、 保存： 

光刻膠中的光敏組分是非常脆弱的，除了有溫度的要求外，對于儲存時間和外包裝材料有很嚴格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包裝，再套上黑色塑料袋，光刻膠確實是在半年內使用為好。過期后最好同廠家溝通進行調換，因為只有生產商知道里面的組分，才能進行產品的重新調整。還有就是光敏組分是廣譜接受光反應的，并不是僅僅紫外光能夠使其失效，只是其它波長光需要的時間長而已。

 2、 光刻膠的涂布溫度： 

光刻膠涂布溫度一般要和你的室溫相同，原因是與室溫相同可以最大減少光刻膠的溫度波動，從而減少工藝波動。而凈化間室溫一般是23度，所以一般為23度，一般在旋涂的情況下，高于會中間厚，低于會中間薄。同時涂布前，wafer也需要冷板，保證每次涂布wafer的溫度一致。

3、 涂布時濕度的控制： 

 現在光刻膠涂覆工段一般都與自動純水清洗線連在一起，很多時候都只考慮此段的潔凈度，而疏忽了該段的濕度控制，使得光刻膠涂覆的良品率比較低，在顯影時光刻膠脫落嚴重，起不到保護阻蝕的效果。

4、 涂膠后產品的放置時間的控制 

在生產設備出現故障等特殊情況下，涂完光刻膠的產品需要保留，保留的時間一般不超過8 小時，曝光前如已被感（即膠膜已失效），不能作為正品，需返工處理。 

5、 前烘溫度和時間的控制 

前烘的目的是促使膠膜內溶劑充分揮發，使膠膜干燥以增強膠膜與基板表面的粘附性和膠膜的耐磨性。曝光時，掩模版與光刻膠即使接觸也不會損傷光刻膠膜和沾污掩模膜，同時只有光刻膠干凈、在曝光時，光刻膠才能充分地和光發生反應。同時注意前烘的溫度不能過高，過高會造成光刻膠膜的碳化，從而影響光刻效果。一般情況下，前烘的溫度取值比后烘堅膜溫度稍低一些，時間稍短一些。

6、 顯影條件的控制 

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間。在一定濃度下的顯影液中，溫度和時間直接影響的速度，若顯影時間不足或溫度低，則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解，留有一層光刻膠，在刻蝕時，這層膠會對膜面進行保護作用，使應該刻蝕的膜留下來。若顯影時間過長或溫度過高，顯影時未被曝光部位的光刻膠也會被從邊緣里鉆溶。使圖案的邊緣變差，再嚴重會使光刻膠大量脫落，形成脫膠。