準LIGA技術是用紫外光光源來代替LIGA技術中的同步輻射X光深層光刻，然后進行后續的微電鑄和微復制工藝。它不需要像LIGA技術所需的同步輻射X光光刻和特制的X光掩模板，從而實現微機械器件的大批量生產。

特點	LIGA技術	準LIGA技術
光源	同步輻射X光	普通紫外光（波長為350-450 nm）
掩模板	以金為吸收體的X射線掩模板	標準鉻掩模板
光膠	常用聚甲基丙烯酸甲酯	常用SU-8負光膠
深寬比	一般≤100，最高可達500	一般≤10，最高可達30
膠膜厚度	幾十微米到1000μm	幾微米到幾十微米，最高可達680 μm
生產周期	較長	較短
生產成本	較高	較低，約為LIGA技術的1/100
側壁垂直度	大于89.9°	大于88°
最小尺寸	亞微米	微米
加工溫度	常溫至50℃左右	常溫至50℃左右
加工材料	塑料、金屬、陶瓷等	塑料、金屬、陶瓷等